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半导体三管又称“晶体三管”或“晶体管”。在半导体锗或硅的单晶上制备两个能相互影响的PN结,组成一个PNP(或NPN)结构。中间的N区(或P区)叫基区,两边的区域叫发射区和集电区,这三部分各有一条电引线,分别叫基B、发射E和集电C,是能起放大、振荡或开关等作用的半导体电子器件。晶体三管(以下简称三管)按材料分有两种:锗管和硅管。而每一种又有NPN和PNP两种结构形式,但使用多的是硅NPN和锗PNP两种三管,(其中,N表示在高纯度硅中加入磷,是指取代一些硅原子,在电压刺激下产生自由电子导电,而p是加入硼取代硅,产生大量空穴利于导电)。两者除了电源性不同外,其工作原理都是相同的,下面仅介绍NPN硅管的电流放大原理。对于NPN管,它是由2块N型半导体中间夹着一块P型半导体所组成,发射区与基区之间形成的PN结称为发射结,而集电区与基区形成的PN结称为集电结,三条引线分别称为发射e、基b和集电c。
通常小容量的电容器是0.01~0.1uF的陶瓷电容器(薄膜电容器为NG),大容量的电容器是1~100uF的铝电解电容。在实际应用中,小容量电容器常取104电容,大容量电容器常取10uF电容。从惯上来说,旁路电容也有大小两个电容,形成两条通路,也电路的性。电源是使电路进行工作的基础,因此,旁路电容可以认为是电路工作的“保险金”。在电路图中,一定要添加旁路电容,所以,从一个人的对旁路电容的应用,是布就可以看出,其是否是高手了。
光电二极管与其他类型的光探测器一样,在诸如光敏电阻、感光耦合元件以及光电倍增管等设备中有着广泛应用。它们能够根据所受光的照度来输出相应的模拟电信号(例如测量仪器)或者在数字电路的不同状态间切换(例如控制开关、数字信号处理)。
实际上不是这样的,从能量守恒可以知道,信号是不可能无缘无故被放大的,放大的信号也必定有来源。输入小的信号,要变成放大的信号,这个能量只能来源于电源供电,即由电源输出一个被放大的形状相同的信号。所以,在外部看来,可以看成输入信号被“放大”了,这就是三管的放大原理。三管的内部工作原理其实很简单,如下图所示,基与发射之间流过的电流进行不断地监视,并控制集电与发射之间放大的电流。也就是说,三管用基电流来控制集电和发射之间的电流。
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